【神奈川】プロセス開発エンジニア

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募集要項

会社概要

同社は、最先端半導体装置メーカーです。

業務内容

エピタキシャル半導体製造装置開発の中で、実際にプロセス（成膜）を行っていただきます。

• シリコン、GaN、SiC膜の成膜方法（レシピ）の開発と測定機による評価
• 装置の開発、客先でのデモンストレーション、メンテナンス、トラブル対応
• プロセスに関する客先でのプロセス仕様打合せ、装置立上、客先でのプロセス支援

応募条件

• 国内外への長期出張が可能な方。
• エピ成膜に興味がある方。

歓迎条件：・半導体の製造等において何らかの成膜経験がある方。・半導体製造装置（CVD装置）を使用した成膜経験がある方。・半導体製造装置（CVD装置）で使用されるガスや、真空装置の取り扱い経験がある方。・英語でのコミュニケーションが可能な方。

給与

400 - 900 万円

勤務地

横浜